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为什么射频溅射会产生反射功率?

发布时间:2019/05/19 丨 文章来源:快银技术中心 丨 浏览次数:

在进行射频磁控溅射时,会产生一些反射功率,需要使其为零才能获得等离子体。即使在归零后的几分钟内,我也面临着反射能量的持续上升。可能的原因和解决方法是什么?
A1:影响阻抗和功率反射的原因可能有很多:
你的压力可能不太稳定;溅射目标的第一层后,表面电阻发生变化;你的防护罩和磁控管目标之间的距离;由于快门通常接地,所以在敲击时尽量保持磁控管快门打开,并使用自动匹配网络。
A2: 反射功率对等离子体的影响很大程度上取决于它的相位。尝试改变发电机和匹配网络之间的同轴电缆长度。人们希望相位条件是这样的,当功率稍微降低时,系统就会走向匹配。注意等离子体负载不是线性的。
A3:反射功率的来源是你的馈电线的阻抗与你房间的阻抗不匹配。基本上。你的发电机有50欧姆的阻抗,你的工作(因为你没有自动匹配)是配置你的火柴盒(如果不是自动的,那么手动的,希望你有它),使它匹配你的发电机的50欧姆到你的房间的20欧姆。这通常通过调整接线盒内的两个电容来完成。

问:在我的射频磁控溅射系统中,当我用100%氮作等离子体时,反射功率为零,但当我用氩和氮的混合物时,反射功率随氩气百分比的增加而增加。虽然我们也使用自动匹配网络。
答:氩气可能会增加等离子体密度,从而增加与之匹配的壁鞘电容。可能的是,你的匹配网络超出了范围,即需要更少的电感。再次,如果相位是这样的话,当功率降低时,匹配会变得更好,反射功率也不错!通过改变发电机和等离子体匹配网络之间的电缆长度,可以改变相位。
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